清洗機(jī)與工業(yè)清洗及各種工業(yè)活動(dòng)密切相關(guān)，有的是，產(chǎn)品生產(chǎn)工藝的一個(gè)組成部分。清洗不提供終的產(chǎn)品。而是許多工業(yè)生產(chǎn)過程中的一個(gè)局部工序。工藝或輔助活動(dòng)。在一些傳統(tǒng)工業(yè)中。清洗已經(jīng)被人們看作是一個(gè)簡(jiǎn)單的過程或常識(shí)。往往不被人們重視。但清洗的好壞卻決定終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。特別是在當(dāng)今的高科技產(chǎn)業(yè)中，清洗技術(shù)的作用尤為突出。
 

　　近年來，一些新型的清洗技術(shù)和設(shè)備逐步得到開發(fā)和應(yīng)用，如真空清洗，等離子清洗、紫外/臭氫清洗，激光清洗。干冰清洗等嶄露頭角，展示了良好的效果和應(yīng)用前景。同時(shí)，伴隨著工業(yè)總體水平的提高。免清洗技術(shù)也開始得到推廣，特別是在電子工業(yè)和精密機(jī)械加工領(lǐng)域，潔凈包裝技術(shù)可以使元件。精密工業(yè)清洗所需要的清洗設(shè)備，清洗劑和清洗技術(shù)。目前已經(jīng)基本可以立足國(guó)內(nèi)。專業(yè)清洗設(shè)備生產(chǎn)單位已經(jīng)多次在公開招標(biāo)中中標(biāo)，并批量生產(chǎn)單機(jī)自動(dòng)和成套的大型清洗設(shè)備，經(jīng)過國(guó)內(nèi)和專家驗(yàn)收，*可以滿足我國(guó)清洗行業(yè)的需要。
 

　　等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進(jìn)分子、光子以及中性粒子組成。是物質(zhì)的第四態(tài)。通常情況下，人們普遍認(rèn)為的物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這三種狀態(tài)是靠物質(zhì)中所含能量的多少。氣態(tài)是物質(zhì)的三個(gè)狀態(tài)中高的能量狀態(tài)。給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會(huì)形成等離子體。當(dāng)?shù)竭_(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子裂變成了許許多多的高度活躍的粒子。這些裂變不是的，一旦用于形成等離子體的能量消失，各類粒子重新結(jié)合，形成原來的氣體分子。
 

　　等離子體技術(shù)在本世紀(jì)六十年代起就開始應(yīng)用于化學(xué)合成、薄膜制備、表面處理和精細(xì)化工等領(lǐng)域，在大規(guī)模或超大規(guī)模集成電路工藝干法化、低溫化方面，在近年來也開發(fā)應(yīng)用了等離子體聚合、等離子體蝕刻、等離子體灰化及等離子體陽(yáng)極氧化等全干法工藝技術(shù)。清洗機(jī)技術(shù)也是工藝干法化的進(jìn)步成果之一。與濕法清洗不同，等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中為*的剝離式的清洗。